三星宣布3nm芯片成功流片 规模化量产时间节点临近

每经记者 蔡鼎    每经编辑 王晓波    

每经AI快讯，据外媒报道，三星宣布，3nm制程技术已经正式流片。据介绍，三星的3nm制程采用的是GAA架构，性能优于台积电的3nm FinFET架构。

原文链接： http://www.zdm5.com/article-36458.html

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